当前位置:数码通 > 趋势

ASML表示DUV光刻机系统无需申请美国出口许可证

来源于 数码通 2023-10-03 11:22

全球最大的光刻机公司ASML表示,DUV光刻机系统不需要向美国申请出口许可证。它将向中国出售大量DUV光刻机,在中国建立合资工厂,加强与中国的合作。 ,这被视为对华善意的释放。

中国最大的芯片制造企业中芯国际已投产14纳米FinFET工艺,上海华虹已投产28纳米工艺。此时,ASML表示可以向中国大量销售DUV光刻机,这将有助于中国的芯片制造工厂快速扩大产能。

中国是世界最大的制造国。除了其对先进工艺的需求外,对相对落后的14nm FinFET、28nm等工艺也有巨大的需求。比如路由器、电视芯片、空调芯片等都可以采用这些相对落后的工艺来生产。它可以帮助中国增强自主研发能力。

目前,我国也在加速模拟芯片的研发。国产模拟芯片仅占中国需求的10%左右。中国模拟芯片发展的快速加速也需要大量购买这些DUV光刻机来发展自己的芯片制造。工艺。这些都表明ASML此刻正在释放善意,对中国给予大力支持。

不过,ASML有很多零部件需要从美国进口。专家业内人士表示,不能违反《瓦森纳尔协议》,研发7纳米及更先进工艺所需的EUV光刻机仍无法出口到中国。这种对中国的支持确实有限。

值得注意的是,ASML第三季度财报显示,其66%的利润来自技术先进的EUV光刻机。这样一来,它就可以依靠EUV光刻机提供的巨额利润。利用价格战打压中国光刻机企业在DUV光刻机市场,ASML表示,向中国大量出口DUV光刻机可能被认为是打压中国光刻机行业。

我国现在已经意识到发展光刻机的重要性,因此正在积极支持国内光刻机产业。但受限于技术,中国光刻机企业当然会开发技术相对落后的DUV光刻机。如果中国芯片企业不采购国产光刻机,国产光刻机将无法积累技术和资金来研发更先进的EUV光刻机。这对中国光刻机行业造成毁灭性影响。

如果ASML因为相关限制一直无法向中国供应技术先进的EUV光刻机,而中国自己的光刻机企业又无法研发EUV光刻机,那么中国的芯片制造企业就永远只能止步于7nm工艺,而芯片制造中国大陆以外的公司现已投入生产5纳米工艺。未来,更先进工艺的研发也将加速。中国的芯片制造工艺只会越来越落后。

综上所述,ASML此时宣布向中国出口大量光刻机固然显示了其善意,但对于中国的光刻机行业和芯片制造业来说,未必是一件好事。其此举很可能是为了保持技术领先地位,中国芯片产业的长远利益可能会因此受损。

责任编辑:xj

-->
登录后参与评论