据台湾媒体7月6日报道，ASML正试图规避荷兰新的销售许可禁令，针对中国大陆市场推出特殊版本的DUV光刻机。
消息人士称，如果该项目继续推进，中芯国际、华虹等半导体公司可以继续使用ASML的设备生产28纳米及更成熟工艺的芯片。
据悉，这款特别版DUV光刻机是基于TwinscanNXT：1980Di光刻系统改装而成。 1980Di是10年前推出的老款车型，不在本次官方禁令的范围内。 1980Di是ASML目前效率相对较低的光刻机。支持NA 1.35光学器件，分辨率可达<38nm，理论上可支持7nm工艺。大多数晶圆厂使用1980Di光刻机，主要生产14nm及以上工艺芯片，很少使用其生产7nm芯片。
不过，ASML最新回应称：ASML一直遵守适用的法律法规，我们尚未针对中国市场推出特别版光刻机。
不过，业内人士表示，报道中提到的特别版DUV光刻机是基于Twinscan NXT:1980Di光刻系统。作为10年前推出的车型，由于技术已经严重过时，新老车型中已经没有了。被禁止。虽然这类光刻机理论上可以支持7nm芯片的制造，但由于其生产效率极低、良率不佳，很少有半导体公司在使用。
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